发明名称 |
减小光掩模的劣化和/或修改光掩模的特征尺寸的方法 |
摘要 |
本发明涉及一种用于减小光掩模的劣化和/或修改光掩模的特征尺寸的方法。光掩模包括透射光的基板和邻近所述基板的吸收体层。所述吸收体层包括被构图成多个特征的硅化物,例如钼硅化物。当用于制造集成电路而将所述掩模暴露于光时,控制周边环境以防止由所述吸收体层的氧化而导致的不希望的生长。在另一方面,当将所述掩模暴露于光时,控制周边环境以促进由所述吸收体层的氧化而导致的希望的生长。 |
申请公布号 |
CN101713918A |
申请公布日期 |
2010.05.26 |
申请号 |
CN200910175689.0 |
申请日期 |
2009.09.29 |
申请人 |
国际商业机器公司 |
发明人 |
P·H·巴特劳;T·B·福尔;A·瓦格纳 |
分类号 |
G03F1/14(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I |
主分类号 |
G03F1/14(2006.01)I |
代理机构 |
北京市中咨律师事务所 11247 |
代理人 |
于静;李峥 |
主权项 |
一种方法,包括以下步骤:获得光掩模,所述光掩模包括透射光的基板和邻近所述基板的吸收体层,所述吸收体层包括被构图成多个特征的硅化物;将所述光掩模安装到用于集成电路制造工艺的步进机装置中;以及在所述集成电路制造工艺期间,在包括基本上干燥的惰性气体的气氛中用波长小于约240nm的辐射来辐照所述光掩模;由此基本上抑制由氧化导致的所述吸收体层的生长。 |
地址 |
美国纽约 |