Verfahren zum Strukturieren von Strukturmerkmalen und Strukturen davon

摘要

Verfahren zum Strukturieren von Merkmalen, Verfahren zum Herstellen von Halbleiterbauelementen und Halbleiterbauelemente werden offenbart. Bei einer Ausführungsform beinhaltet ein Verfahren zum Strukturieren eines Strukturmerkmals das Ausbilden eines ersten Abschnitts (122) des Strukturmerkmals in einer ersten Materialschicht (Mx). Ein zweiter Abschnitt (124) des Strukturmerkmals wird in der ersten Materialschicht (Mx) ausgebildet und ein dritter Abschnitt (126) des Strukturmerkmals wird in einer zweiten Materialschicht (CA) ausgebildet.