| 发明名称 | 激光掩模及使用它的结晶方法 | ||
| 摘要 | 一种采用掩模的结晶方法，包括提供一个具有半导体层的基板；将一个掩模定位在基板上面，该掩模具有第一，第二和第三块，该掩模包括：在该第一块中的第一掩模图形；在该第二块中的第二掩模图形；以及在该第三块中的第三掩模图形，所述第一至第三块中的每一块具有包括多个透射区和一个遮挡区的周期性图形，第一块的第一掩模图形具有第一位置，第二块的第二掩模图形具有第二位置，第三块的第三掩模图形具有第三位置，第一，第二和第三位置彼此不同，并且相邻的三个透射区构成一个等边三角形，而六个等边三角形构成一个规则六边形；以及利用三次照射法通过掩模用激光束照射半导体层使其结晶。 | ||
| 申请公布号 | CN1637483B | 申请公布日期 | 2010.04.28 |
| 申请号 | CN200410091185.8 | 申请日期 | 2004.11.23 |
| 申请人 | 乐金显示有限公司 | 发明人 | 俞载成 |
| 分类号 | G02F1/136(2006.01)I;G11C19/28(2006.01)I;H01L21/20(2006.01)I | 主分类号 | G02F1/136(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人 | 祁建国;徐金国 |
| 主权项 | 一种激光掩模，具有第一，第二和第三块，该激光掩模包括：在该第一块中的第一掩模图形；在该第二块中的第二掩模图形；以及在该第三块中的第三掩模图形，所述第一至第三块中的每一块具有包括多个透射区和一个遮挡区的周期性图形，其中，该第一块的第一掩模图形具有第一位置，第二块的第二掩模图形具有第二位置，第三块的第三掩模图形具有第三位置，第一，第二和第三位置彼此不同，并且相邻的三个透射区构成一个等边三角形，而六个等边三角形构成一个规则六边形。 | ||
| 地址 | 韩国首尔 | ||