光学元件的制造方法

摘要

本发明提供一种通过测定移动着的涂布在带状基板薄膜上的液晶性高分子溶液层的厚度以监视涂布状态、控制涂布工序的方法。其解决手段是从移动中的液晶性高分子溶液层/基板薄膜形成的带状叠层体的液晶性高分子溶液层侧照射光，由液晶性高分子溶液层表面的反射光和该溶液层与基板薄膜的界面的反射光的光路差来连续测定该液晶性高分子溶液层的厚度，监视涂布状态。

主权项

一种光学元件的制造方法，其特征为在移动着的厚度在0.5～200μm范围的带状基板薄膜上涂布液晶性高分子溶液形成移动的叠层体，对其表面照射波长200～1000nm的光线，由该液晶性高分子溶液层表面的反射光和从该液晶性高分子溶液层与该基板薄膜的界面的反射光的干涉光谱按照以下算式测定该液晶性高分子溶液层的厚度(D)，通过监视该测定值来控制该涂布工序；2nLD＝Nλ1 2nLD＝(N+1)λ2nL：液晶性高分子溶液的折射率D：液晶性高分子溶液的厚度，单位为μm，λ1、λ2：干涉光谱相邻波峰的波长，单位为μm，λ1＞λ2N：整数。