半导体装置及其制造方法

摘要

本发明公开了一种半导体装置及其制造方法。进行在形成有元件隔离区域的第二区域的至少一部分平坦区域以相等的厚度形成第一平坦化膜的第一平坦化膜形成工序、在第一平坦化膜之间形成具有与第一平坦化膜的表面相接的平坦表面的第二平坦化膜的第二平坦化膜形成工序、通过第一平坦化膜或第二平坦化膜将剥离用物质离子注入到基体层中来形成剥离层的剥离层形成工序、以及沿着剥离层将基体层的一部分分离的分离工序。

主权项

一种半导体装置的制造方法，该半导体装置具有活性区域形成在基体层的多个第一区域、和设在该各个第一区域之间且形成有元件隔离区域的各个第二区域，其特征在于：包括以下各个工序：第一平坦化膜形成工序，在所述各个第二区域的至少一部分平坦区域以相等的厚度形成具有平坦表面的第一平坦化膜；第二平坦化膜形成工序，在所述第一平坦化膜之间形成具有与所述第一平坦化膜的表面相接的平坦表面的第二平坦化膜；剥离层形成工序，通过所述第一平坦化膜或所述第二平坦化膜将剥离用物质离子注入到所述基体层中来形成剥离层；以及分离工序，沿着所述剥离层将所述基体层的一部分分离下来，还包括：在所述第一区域形成栅电极的栅电极形成工序；在所述第一平坦化膜形成工序中，使所述第一平坦化膜形成得高于或等于所述栅电极的表面高度。