发明名称 低应力抛光装置
摘要 一种低应力抛光装置,包含有:一基座;复数驱动器,彼此相隔预定距离设于该基座,各该驱动器具有一驱动杆以及一缓冲弹簧,该缓冲弹簧连结于该驱动杆,用以对该驱动杆提供适当的预推力,各该驱动杆的末端具有一缓冲垫;至少一驱动电路,电性连接于该等驱动器,对该等驱动器提供驱动控制;一作用板,设于该等缓冲垫;以及一研磨垫,设于该作用板。藉此,本发明所产生的振动模态可对晶圆的表面产生动态的压力,藉以破坏晶圆表面的生成物,可用于低介电常数整合铜金属制程的抛光。
申请公布号 TWI322745 申请公布日期 2010.04.01
申请号 TW096117658 申请日期 2007.05.17
申请人 国立中正大学 发明人 蔡孟勋;郑友仁
分类号 B24B37/04;B24B1/04;H01L21/304 主分类号 B24B37/04
代理机构 代理人 刘绪伦
主权项 一种低应力抛光装置,包含有:一基座;复数驱动器,分别为一压电积层致动器而可产生振动,彼此相隔预定距离设于该基座,各该驱动器具有一驱动杆以及一缓冲弹簧,该缓冲弹簧连结于该驱动杆,用以对该驱动杆提供适当的预推力,各该驱动杆的末端具有一缓冲垫;至少一驱动电路,电性连接于该等驱动器,对该等驱动器提供驱动控制,该驱动电路驱动该等驱动器时,系产生平行振动或驻波或行波模态振动;一作用板,系金属材质,设于该等缓冲垫,该等缓冲垫彼此等间隔位于该作用板之一面;以及一研磨垫,设于该作用板。
地址 嘉义县民雄乡大学路168号