发明名称 |
分析模型制作方法以及预测成型缺陷的模拟系统和方法 |
摘要 |
本发明提供一种用于制作分析模制件的形状的分析模型的方法。所述方法包括以下步骤:(a)对模制件的形状进行三维测量以获得形状数据;(b)将形状数据划分成限定模制件的厚度的两个表面;(c)计算划分的两个表面之间的偏差作为厚度数据;(d)使厚度数据与形状数据相关联;(e)由关于模制件的CAD数据制作模制件的形状模型;(f)使形状模型与形状数据相关联;以及(g)根据步骤(f)中的关联操作将与形状数据相关联的厚度数据赋给形状模型,从而制作分析模型。 |
申请公布号 |
CN101685475A |
申请公布日期 |
2010.03.31 |
申请号 |
CN200910166023.9 |
申请日期 |
2009.08.07 |
申请人 |
本田技研工业株式会社 |
发明人 |
久井研司;森川秀峰 |
分类号 |
G06F17/50(2006.01)I;B29C45/76(2006.01)I |
主分类号 |
G06F17/50(2006.01)I |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 |
代理人 |
张成新 |
主权项 |
1.一种制作用于分析模制件的形状的分析模型的方法,所述方法包括以下步骤:(a)对所述模制件的形状进行三维测量以获得形状数据;(b)将所述形状数据划分成限定所述模制件的厚度的两个表面;(c)计算划分的所述两个表面之间的偏差作为厚度数据;(d)使所述厚度数据与所述形状数据相关联;(e)由关于所述模制件的CAD数据制作所述模制件的形状模型;(f)使所述形状模型与所述形状数据相关联;以及(g)根据步骤(f)中的关联操作将与所述形状数据相关联的所述厚度数据赋给形状模型,从而制作所述分析模型。 |
地址 |
日本东京都 |