发明名称 |
涂覆头的清洁方法、浆料涂覆方法以及等离子体显示器的制造方法 |
摘要 |
本发明提供一种涂覆头清洁方法、浆料涂覆方法以及等离子显示器的制造方法。其中,所述涂覆头清洁方法,清洁附着于涂覆头的排出口附近的排出口面的涂覆液,其特征在于,进行1次以上压触动作,所述压触动作是使胶带在大致垂直方向抵接所述排出口附近的排出口面后在大致垂直方向剥离,此后,进行从所述排出口微量排出涂覆液的微量排出动作,进一步施行1次以上压触动作,所述压触动作是使胶带在大致垂直方向接触所述排出口附近的排出口面后在大致垂直方向剥离。根据本发明,提供一种使用胶带材料可以有效地、不损伤涂覆头地将附着于涂覆头的排出口以及排出口面的浆料除去的涂覆头清洁方法。 |
申请公布号 |
CN101678389A |
申请公布日期 |
2010.03.24 |
申请号 |
CN200880017578.0 |
申请日期 |
2008.05.29 |
申请人 |
东丽株式会社 |
发明人 |
长井启史;植田征典;清水泰树 |
分类号 |
B05D1/26(2006.01)I;B05D3/12(2006.01)I;H01J9/227(2006.01)I;H01J11/02(2006.01)I |
主分类号 |
B05D1/26(2006.01)I |
代理机构 |
北京市金杜律师事务所 |
代理人 |
杨宏军 |
主权项 |
1.一种涂覆头清洁方法,是清洁附着于涂覆头的排出口附近的排出口面的涂覆液的涂覆头清洁方法,其特征在于,进行1次以上压触动作,所述压触动作是使胶带在大致垂直方向接近所述排出口附近的排出口面并在抵接后在大致垂直方向剥离,之后进行从所述排出口微量排出涂覆液的微量排出动作,进一步施行1次以上压触动作,所述压触动作使胶带在大致垂直方向接近所述排出口附近的排出口面并在抵接后在大致垂直方向剥离。 |
地址 |
日本东京都 |