基片容器的清洗系统

摘要

带有基片容器接收区域的清洗站，其具有至少一个向上延伸的清洗喷嘴。该喷嘴具有环形接合唇。基片容器具有用于至少一个基片的支撑装置和清洗端口组件，该清洗端口组件包括从容器面朝下的外向密封凸缘。密封凸缘具有中心孔口和悬臂凸缘部分，该悬臂凸缘部分与喷嘴的环形接合唇接合。由凸缘的悬臂部分承载的在喷嘴上的基片容器的重量导致所述凸缘弯曲以便实现弹性软密封。

主权项

1.一种用于保持在半导体制造中使用的掩模原版的掩模原版SMIF盒，该掩模原版SMIF盒包括：上外壳，带有开口内部和开口底部；门，构造成在所述上半壳的开口底部处密封接合并且闭锁到上外壳上，所述门包括基部、用于支撑从所述基部延伸的掩模原版并且限定掩模原版SMIF盒接收区域的支撑件、以及用于与清洗喷嘴相接的面朝下的喷嘴接口；所述喷嘴接口包括由弹性聚合物形成的盘形的悬臂凸缘部分，该悬臂凸缘部分带有用于让清洗气体从中通过的中心开口，当与清洗喷嘴接合时所述悬臂凸缘部分定位成能够从水平面向上同心地偏移成锥形或圆锥形形态。