| 发明名称 | 共轭二烯系聚合物、共轭二烯系聚合物组合物及其制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种共轭二烯系聚合物，其为具有基于共轭二烯的结构单元和右式(I)表示的结构单元的共轭二烯系聚合物，其特征在于，是利用具有右式(II)表示的键的化合物将聚合物的至少一端改性而形成的。如图示(Ⅰ)中，X<sup>1</sup>、X<sup>2</sup>及X<sup>3</sup>分别独立地表示说明书中规定的基团。如图示(Ⅱ)中，p表示0或1，T表示说明书中规定的基团。 | ||
| 申请公布号 | CN101659732A | 申请公布日期 | 2010.03.03 |
| 申请号 | CN200910168308.6 | 申请日期 | 2009.08.27 |
| 申请人 | 住友化学株式会社 | 发明人 | 大岛真弓 |
| 分类号 | C08F236/04(2006.01)I;C08F230/08(2006.01)I;C08F8/30(2006.01)I;C08L47/00(2006.01)I | 主分类号 | C08F236/04(2006.01)I |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人 | 朱 丹 |
| 主权项 | 1、一种共轭二烯系聚合物，其特征在于，具有基于共轭二烯的结构单元和下式(I)表示的结构单元，并且该共轭二烯系聚合物是利用具有下式(II)表示的键的化合物来改性聚合物的至少一端而形成的，<img file="A2009101683080002C1.GIF" wi="884" he="305" />式中，X<sup>1</sup>、X<sup>2</sup>及X<sup>3</sup>分别独立地表示下式(Ia)表示的基团、羟基、烃基或取代烃基，X<sup>1</sup>、X<sup>2</sup>及X<sup>3</sup>中的至少一个为下式(Ia)表示的基团或羟基，<img file="A2009101683080002C2.GIF" wi="933" he="206" />式中，R<sup>1</sup>及R<sup>2</sup>分别独立地表示碳原子数1～6的烃基、碳原子数1～6的取代烃基、甲硅烷基或取代甲硅烷基，R<sup>1</sup>及R<sup>2</sup>可以键合而与氮原子一同形成环结构，<img file="A2009101683080002C3.GIF" wi="912" he="158" />式中，p表示0或1，T表示碳原子数1～20的亚烃基或碳原子数1～20的取代亚烃基，A表示具有氮原子的官能团。 | ||
| 地址 | 日本国东京都 | ||