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经营范围
发明名称
增艳型偏光装置与制程
摘要
一种增艳型偏光装置与制程,其装置包含一具有多数凹陷区与凸出部之透光基板;一与透光基板层叠之透光材料层;及设于各凸出部上与透光材料层间之遮光层;另该透光材料层亦可具有对应结合各凹陷区及凸出部之凸缘与凹槽。制作时系于透光基板上层叠一遮光层,并蚀刻多数凹陷区与凸出部,之后再层叠一透光材料层,使遮光层设于各凸出部与透光材料层间;另该透光材料层亦可压合于透光基板上,形成与各凹陷区与凸出部对应结合之凸缘及凹槽。藉此,可让非垂直光线利用偏光装置偏极化,而形成所需方向之光,达到辅助增艳之功效。
申请公布号
TWI320488
申请公布日期
2010.02.11
申请号
TW095144554
申请日期
2006.11.30
申请人
国立成功大学
发明人
廖文昌;许联崇;洪敏雄;洪昭南
分类号
G02B5/30;G02F1/1335
主分类号
G02B5/30
代理机构
代理人
欧奉璋
主权项
一种增艳型偏光装置,其包括有:一透光基板,该透光基板之一面上系具有多数凹陷区,各凹陷区间系分别具有一凸出部;一透光材料层,该透光材料层系层叠于上述透光基板之各凸出部上,且该透光材料层之折射率系小于透光基板;以及一遮光层,该遮光层系设置于透光基板与透光材料层之间,且层叠于上述透光基板各凸出部之端面上。
地址
台南市东区大学路1号
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