发明名称 | 图案化金属层的方法 | ||
摘要 | 一种图案化金属层的方法,此方法系首先在一介电层上依序形成一阻障层、一金属层以及一抗反射层,并且在抗反射层上形成一图案化之光阻层。接着以光阻层为一蚀刻罩幕,图案化抗反射层、金属层以及阻障层,其中阻障层以及抗反射层之侧壁相较于金属层之侧壁会较为凸出。之后,移除光阻层,然后再移除阻障层以及抗反射层侧壁之部分厚度。由于本发明在移除光阻层之后,会将阻障层与抗反射层侧壁之部分厚度移除,因此可以改善阻障层与抗反射层之侧壁凸出金属层侧壁而引发之问题。 | ||
申请公布号 | TWI320202 | 申请公布日期 | 2010.02.01 |
申请号 | TW092125692 | 申请日期 | 2003.09.18 |
申请人 | 南亚科技股份有限公司 | 发明人 | 林政纲 |
分类号 | H01L21/3065 | 主分类号 | H01L21/3065 |
代理机构 | 代理人 | 詹铭文;萧锡清 | |
主权项 | 一种图案化金属层的方法,包括:在一介电层上依序形成一阻障层、一金属层以及一抗反射层;在该抗反射层上形成一图案化之光阻层;以该光阻层为一蚀刻罩幕,图案化该抗反射层、该金属层以及该阻障层,其中该阻障层以及该抗反射层之侧壁相较于该金属层之侧壁会较为凸出;移除该光阻层;以及移除该阻障层以及该抗反射层侧壁之部分厚度。 | ||
地址 | 桃园县龟山乡华亚科技园区复兴三路669号 |