| 发明名称 | 曝光装置、基板处理方法、以及器件制造方法 | ||
| 摘要 | 曝光装置(EX)，具备用以检测形成于基板(P)上的薄膜(Rg，Tc)缺陷的检测装置(60)。当为经由液体(LQ)使基板(P)曝光的液浸曝光的情形，可预先检测薄膜(Rg，Tc)缺陷所导致的液体流出，抑制器件生产性的降低，防止曝光装置的障碍的产生。 | ||
| 申请公布号 | CN100580878C | 申请公布日期 | 2010.01.13 |
| 申请号 | CN200680014495.7 | 申请日期 | 2006.06.29 |
| 申请人 | 株式会社尼康 | 发明人 | 藤原朋春;中野胜志 |
| 分类号 | H01L21/027(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/027(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 王永刚 |
| 主权项 | 1.一种曝光装置，对形成有薄膜的基板经由液体照射曝光用光以使上述基板曝光，其特征在于，具备：将上述液体供应至上述基板上，形成供上述曝光用光通过的液浸区域的液浸机构；在上述液浸机构将上述液浸区域形成于上述基板上之前，检测上述基板上的薄膜形成状态的检测装置；以及根据上述检测装置的检测结果判定是否可供应上述液体的控制装置。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||