发明名称 非挥发性记忆体
摘要 一种非挥发性记忆体,其系由基底、电荷储存层、控制闸极层、源极区与汲极区所构成。其中电荷储存层配置在基底上,控制闸极层配置在电荷储存层上。源极区与汲极区分别配置在控制闸极层侧边之基底中。而且,藉由在靠近源极区或汲极区的电荷储存层中施加一应力,可以改变电荷储存层之局部区域的性质,进而程式化非挥发性记忆体。
申请公布号 TWI319620 申请公布日期 2010.01.11
申请号 TW094116655 申请日期 2005.05.23
申请人 旺宏电子股份有限公司 发明人 刘建宏;张瑞斌;陈盈佐;黄守伟;施彦豪;赖二琨
分类号 H01L27/115;G11C16/02 主分类号 H01L27/115
代理机构 代理人 詹铭文;萧锡清
主权项 一种非挥发性记忆体,包括:一基底;一电荷储存层,配置在该基底上;一控制闸极层,配置在该电荷储存层上;以及一源极区与一汲极区,分别配置在该控制闸极层侧边之该基底中,其中藉由在靠近该源极区或该汲极区的该电荷储存层中施加一应力,可以改变该电荷储存层之局部区域的一性质,进而程式化该非挥发性记忆体。
地址 新竹市新竹科学工业园区力行路16号
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