发明名称 | 非挥发性记忆体 | ||
摘要 | 一种非挥发性记忆体,其系由基底、电荷储存层、控制闸极层、源极区与汲极区所构成。其中电荷储存层配置在基底上,控制闸极层配置在电荷储存层上。源极区与汲极区分别配置在控制闸极层侧边之基底中。而且,藉由在靠近源极区或汲极区的电荷储存层中施加一应力,可以改变电荷储存层之局部区域的性质,进而程式化非挥发性记忆体。 | ||
申请公布号 | TWI319620 | 申请公布日期 | 2010.01.11 |
申请号 | TW094116655 | 申请日期 | 2005.05.23 |
申请人 | 旺宏电子股份有限公司 | 发明人 | 刘建宏;张瑞斌;陈盈佐;黄守伟;施彦豪;赖二琨 |
分类号 | H01L27/115;G11C16/02 | 主分类号 | H01L27/115 |
代理机构 | 代理人 | 詹铭文;萧锡清 | |
主权项 | 一种非挥发性记忆体,包括:一基底;一电荷储存层,配置在该基底上;一控制闸极层,配置在该电荷储存层上;以及一源极区与一汲极区,分别配置在该控制闸极层侧边之该基底中,其中藉由在靠近该源极区或该汲极区的该电荷储存层中施加一应力,可以改变该电荷储存层之局部区域的一性质,进而程式化该非挥发性记忆体。 | ||
地址 | 新竹市新竹科学工业园区力行路16号 |