发明名称 |
P型氧化锌薄膜制造方法及系统 |
摘要 |
本发明系有关一种P型氧化锌薄膜制造方法及系统,其主要是利用射频磁控共溅镀系统,藉以简化制程,并以氧化锌以及氮化铝为共溅镀靶材,藉由改变施加在氧化锌及氮化铝靶材之射频功率,以制作并控制具有不同浓度的铝+氮共掺杂之氧化锌薄膜,以利氮原子在氧化锌薄膜中的掺杂作用,并采用高温制程或后续热处理制程,藉以活化掺杂材料的原子成为较佳的受体或施体离子,进而可供制成具有不同电洞浓度之p型氧化锌薄膜。 |
申请公布号 |
TWI319595 |
申请公布日期 |
2010.01.11 |
申请号 |
TW095141713 |
申请日期 |
2006.11.10 |
申请人 |
国立虎尾科技大学 |
发明人 |
刘代山;李清庭;许加昇;蔡富钧 |
分类号 |
H01L21/203;H01L21/363;C23C14/34;C23C14/08 |
主分类号 |
H01L21/203 |
代理机构 |
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代理人 |
林基源 |
主权项 |
一种p型氧化锌薄膜制造系统,其包括一真空抽气系统、一射频电源供应系统、一溅镀制程腔体、一加热装置以进行升温溅镀制程,及一组气体质流控制器(mass flow controller)以控制溅镀时通入之氩气气体流量,其中,该真空抽气系统包括一组旋转柱塞邦浦(Rotary plunger pumps)及一组涡轮分子邦浦(Turbomolecular pump);该射频电源供应系统包括一组具有同相位的两个射频电源供应器,其一电源供应器为提供主电源以及脉冲至另一电源供应器,以完成具有同相位且不同射频功率输出之电源,以及两组射频功率匹配箱;该制程腔体的反应室则包含两套射频磁控式溅镀枪、活动遮板(shutter)以及具有冷却装置的试片承载台。 |
地址 |
云林县虎尾镇文化路64号 |