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发明名称 Methode für ein selektives epitaktisches Wachstum von Source/Drain Gebieten
摘要
申请公布号 DE602005017806(D1) 申请公布日期 2009.12.31
申请号 DE20056017806T 申请日期 2005.12.23
申请人 IMEC 发明人 VERHEYEN, PETER;SHAMIRYAN, DENIS;ROOYACKERS, RITA
分类号 H01L21/336;H01L21/033;H01L21/8238 主分类号 H01L21/336
代理机构 代理人
主权项
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