发明名称 不同工艺规则SRAM图形的快速修改方法
摘要 本发明公开了一种不同工艺规则SRAM图形的快速修改方法,该方法利用GDSII文件的阶层化结构,以二维图形的布尔运算为基础,通过计算两个SRAM Cell的误差图形面积λ来确定图形的相似性。本发明再通过软件程序建立SRAM Cell库,查找待修改文件中的SRAM Cell,通过比较找到与之相似的可实施的SRAM Cell库中的SRAM Cell,最后以与之相似的可实施的SRAM Cell替代原始SRAM Cell。所有过程均通过软件程序自动完成,与传统的人工操作相比,本发明不仅大大提高效率,而且准确度和可靠性都有较大提升。
申请公布号 CN100576216C 申请公布日期 2009.12.30
申请号 CN200710040714.5 申请日期 2007.05.16
申请人 上海华虹NEC电子有限公司 发明人 张兴洲
分类号 G06F17/50(2006.01)I 主分类号 G06F17/50(2006.01)I
代理机构 上海浦一知识产权代理有限公司 代理人 周 赤
主权项 1.一种不同工艺规则SRAM图形的快速修改方法,其特征是:该方法包括以下步骤:第一步,建立一个SRAM Cell库,该SRAM Cell库中存储着所有可实施的SRAM Cell版图数据,该SRAM Cell库是以GDSII格式存储的;第二步,同时读入待修改的版图文件和SRAM Cell库,查找出这两个GDSII文件中的每一个SRAM Cell;第三步,利用GDSII文件的阶层化结构,以二维图形的布尔运算为基础,比较待修改的版图文件中的一个SRAM Cell和SRAM Cell库中的每一个SRAM Cell,直至找出与待修改的版图文件中的SRAM Cell相似的SRAMCell库中的SRAM Cell;第四步,将待修改的版图文件中的SRAM Cell以SRAM Cell库中的与之相似的SRAM Cell进行替换;第五步,重复上述第三步至第四步,直至待修改的版图文件中的每一个SRAM Cell都找出了与之相似的SRAM Cell库中的SRAM Cell,并以SRAMCell库中的与之相似的SRAM Cell进行替换;上述第三步中,比较两个SRAM Cell是否相似包括以下步骤:第1步,比较两个SRAM Cell的层数,如果层数不相同,则判定为不相似;如果层数相同,则继续进行比较;第2步,两个SRAM Cell中的第一层图形分别与自身进行或运算,然后计算两个SRAM Cell中与自身进行过或运算的第一层图形的面积,将其中较大的面积值设为A;第3步,对两个SRAM Cell中与自身进行过或运算的第一层图形进行与运算,将运算所得图形的面积值设为B;第4步,计算误差图形面积λ,λ=|A-B|/A;第5步,为λ值设定一个上限,如果λ值在该上限外,则判定为不相似;如果λ值在该上限内,则继续进行比较;第6步,对两个SRAM Cell中的第二层图形、第三层图形……第n层图形重复上述第二步至第五步,直至两个SRAM Cell的所有相同层比较完毕,如果所有相同层的λ值都在该上限内,则判定为相似;如果有任何λ值在该上限外,则判定为不相似。
地址 201206上海市浦东新区川桥路1188号