优化图案强度轮廓的方法

摘要

所公开的原理包括一种方法和程序产品，用于最优化图案的强度轮廓，该图案利用光学系统相对于给定掩模在基板表面中形成。其步骤包括用数学方法表示从给定掩模中可分辨的特征，生成表示光学系统特定特征的数学表达式，特征函数，通过滤波修正数学特征函数，根据给定掩模的数学表达式和滤波后的特征函数生成干涉图，并且基于干涉图确定对于给定掩模的辅助特征。结果，可以使基板上的非期望印制最小化。

主权项

1.一种优化图案强度轮廓的方法，利用光学系统相对于给定掩模在基板表面中形成该图案，包括步骤：(a)用数学方法表示代表给定掩模的期望印制行为的目标函数；(b)生成表示光学系统特定特征的数学表达式；(c)修正步骤(b)的数学表达式；(d)根据步骤(a)和步骤(c)的结果生成干涉图；(e)基于步骤(d)的干涉图确定给定掩模的辅助特征，其中修正步骤(b)的数学表达式使基板表面中的非期望印刷最小化，而其中步骤(b)产生的数学表达式是表示光学系统特定特征的至少一个特征函数，且其中修正步骤(b)的数学表达式包括对该至少一个特征函数进行滤波，所述滤波仅针对表示旁瓣的函数部分，以去除直流分量和低空间频率。