具有青紫色激光感光性抗蚀剂材料层的成像材料及其抗蚀剂成像法

摘要

本发明提供一种成像材料及其抗蚀剂成像法，该成像材料具有对青紫色光区激光束高度敏感的青紫色激光感光性抗蚀剂材料层，同时，即使当抗蚀剂材料层的膜较厚时，其感光性也不会下降。本发明提供一种具有青紫色激光感光性抗蚀剂材料层的成像材料，该成像材料包括被加工基板和形成于所述基板上的青紫色激光感光性抗蚀剂材料层，其中所述感光性抗蚀剂材料层的膜厚至少为10μm，并且在405nm的波长处具有每1μm膜厚至多为0.3的吸光度，本发明还提供一种抗蚀剂成像法，其中用波长为320nm至450nm的激光束对所述成像材料的感光性抗蚀剂材料层进行扫描曝光，随后进行显影处理。

主权项

1.具有青紫色激光感光性抗蚀剂材料层的成像材料，该成像材料具有被加工基板和在所述基板上形成的感光性抗蚀剂材料层，其特征在于，所述感光性抗蚀剂材料层的膜厚为10μm～200μm，并且在405nm波长处具有每1μm膜厚为0.001～0.3的吸光度，其中所述感光性抗蚀剂材料层具有以下特征：所述感光性抗蚀剂材料层包含具有下列成分(N1-1)、(N1-2)和(N1-3)的可光致聚合的负性感光组合物(N1)：(N1-1)烯键不饱和化合物，(N1-2)增感剂，(N1-3)光致聚合引发剂，其中所述感光性抗蚀剂材料层含有(甲基)丙烯酸酯物质，其作为可光致聚合的负性感光组合物(N1)中成分(N1-1)的烯键不饱和化合物，该(甲基)丙烯酸酯物质具有聚氧化烯基团，并具有至少两个(甲基)丙烯酰氧基团，并且所述感光性抗蚀剂材料层含有六芳基二咪唑化合物，其作为可光致聚合的负性感光组合物(N1)中成分(N1-3)的光致聚合引发剂，所述增感剂为光吸收染料，所述光吸收染料在405nm波长处的摩尔吸光系数ε为100～100,000，能够有效吸收波长为320nm～450nm的青紫色光区的光线，同时所述光吸收染料还具有光敏功能，该功能能够将光激发能传送至所述光致聚合引发剂，使所述光致聚合引发剂分解并产生活性自由基，该自由基能够诱发所述烯键不饱和化合物的聚合反应；其中所述感光性抗蚀剂材料层含有选自由下列物质所组成的组中的至少一种化合物作为可光致聚合的负性感光组合物(N1)中成分(N1-2)的增感剂：二烷基氨基苯化合物；含磺酰亚氨基的化合物；2-萘啶酮化合物或2-喹诺酮化合物；和二氢吲哚化合物；其中作为增感剂的二烷基氨基苯化合物是由下列通式(Ib)或(Id)所代表的化合物：在通式(Ib)中，R²和R⁴各自独立地代表选择性地具有取代基的烷基，R⁶和R⁸各自独立地代表氢原子或选择性地具有取代基的烷基，并且R²与R⁶或R⁴与R⁸选择性地独立形成含氮杂环，并且这两个四氢喹啉环选择性地具有其他取代基；在通式(Id)中，R²代表选择性地具有取代基的烷基，R⁶代表氢原子或选择性地具有取代基的烷基，R²与R⁶选择性地形成含氮杂环，X代表二烷基亚甲基、亚氨基或烷基亚氨基、氧原子或硫原子，环A代表选择性地具有取代基的芳香环，四氢喹啉环选择性地具有其他取代基，作为增感剂的含磺酰亚氨基的化合物是由下列通式(II)所代表的化合物：在通式(II)中，R¹¹和R¹²各自独立地代表氢原子或任选的取代基，R¹³代表任选的取代基，作为增感剂的2-萘啶酮化合物或2-喹诺酮化合物是由下列通式(III)所代表的化合物：在通式(III)中，Z代表氮原子或C-R²¹，R¹⁴、R¹⁵、R¹⁶、R¹⁷、R¹⁸、R¹⁹、R²⁰和R²¹各自独立地代表氢原子或任选的取代基，R¹⁸与R¹⁹、R¹⁹与R²⁰或R²⁰与R²¹选择性地独立形成含氮杂环，并且R¹⁵至R¹⁸中相邻的两个基团之间选择性地键合成环，作为增感剂的二氢吲哚化合物是由下列通式(IV)所代表的化合物：在通式(IV)中，R²²、R²³、R²⁴、R²⁵、R²⁶、R²⁷、R²⁸、R²⁹和R³⁰各自独立地代表氢原子或任选的取代基，R²²与R²³或R²²与R³⁰选择性地独立地形成含氮杂环，并且R²³至R³⁰中相邻的两个基团之间选择性地键合成环。