发明名称 光学薄膜、光学补偿薄膜、偏振片以及液晶显示装置
摘要 本发明提供一种光学薄膜,并且其具有满足关系式(1)-(3)的延迟:(1)0≤Re(550)≤10;(2)-25≤Rth(550)≤25;和(3)|I|+|II|+|III|+|IV|>0.5(nm),其中:I=Re(450)-Re(550);II=Re(650)-Re(550);III=Rth(450)-Rth(550);和IV=Rth(650)-Rth(550),式中,Re(450)、Re(550)和Re(650)为分别利用450nm、550nm和650nm波长的光线测量的面内延迟;而Rth(450)、Rth(550)和Rth(650)为分别利用450nm、550nm、650nm波长的光线测量的所述光学薄膜厚度方向上的延迟。
申请公布号 CN100573196C 申请公布日期 2009.12.23
申请号 CN200610151721.8 申请日期 2006.09.08
申请人 富士胶片株式会社 发明人 中山元;远山浩史;高桥勇太
分类号 G02B1/00(2006.01)I;G02B5/30(2006.01)I;G02F1/1335(2006.01)I 主分类号 G02B1/00(2006.01)I
代理机构 永新专利商标代理有限公司 代理人 于 辉
主权项 1.一种其延迟满足关系式(1)-(3)的光学薄膜:(1)0nm≤Re(550)≤10nm;(2)-25nm≤Rth(550)≤25nm;和(3)|I|+|II|+|III|+|IV|>0.5nm,其中:I=Re(450)-Re(550);II=Re(650)-Re(550);III=Rth(450)-Rth(550);和IV=Rth(650)-Rth(550);式中,Re(450)、Re(550)和Re(650)为分别利用450nm、550nm和650nm波长的光线测量的面内延迟;而Rth(450)、Rth(550)和Rth(650)为分别利用450nm、550nm、650nm波长的光线测量的所述光学薄膜厚度方向上的延迟;其中,I、II、III和IV满足关系式(4-A)至(7-A):(4-A)-50≤I≤0;(5-A)0≤II≤50;(6-A)-50≤III<0;和(7-A)0<IV≤50。
地址 日本东京