发明名称 镁合金蚀刻工艺
摘要 本发明提供一种镁合金蚀刻工艺,其先将镁合金工件进行前处理,再在其表面涂覆感光胶,然后按照加工图样进行感光胶的曝光,而后进行显影及坚膜处理,之后则浸渍于蚀刻溶液中,该蚀刻溶液主要包括:硝酸90~130g/L、硝酸钠40~60g/L、酒石酸0.5~3g/L、蚀刻反应抑制剂1~5g/L,蚀刻完成后则脱膜,得到产品。本发明提供的镁合金蚀刻工艺,其蚀刻液通过加入蚀刻反应抑制剂,能够很好的控制蚀刻反应进行的速度,并且该蚀刻液兼备化学抛光的作用,可使得蚀刻后的镁合金表面呈现光亮的平面效果,另其加工工艺简单,操作方便,具有广泛的应用前景。
申请公布号 CN100570002C 申请公布日期 2009.12.16
申请号 CN200610123186.5 申请日期 2006.10.31
申请人 佛山市顺德区汉达精密电子科技有限公司 发明人 李三旭
分类号 C23F1/22(2006.01)I;C23F1/02(2006.01)I 主分类号 C23F1/22(2006.01)I
代理机构 代理人
主权项 1.一种镁合金蚀刻溶液,其特征在于,主要包括:硝酸 90~130g/L;硝酸钠 40~60g/L;酒石酸 0.5~3g/L;柠檬酸 1~5g/L。
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