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发明名称 Strahlungssystem und lithografische Vorrichtung
摘要
申请公布号 DE602006009749(D1) 申请公布日期 2009.11.26
申请号 DE200660009749T 申请日期 2006.11.20
申请人 ASML NETHERLANDS B.V. 发明人 VAN HERPEN, MAARTEN MARINUS JOHANNES WILHELMUS;KLUNDER, DERK JAN WILFRED;MOORS, JOHANNES HUBERTUS JOSEPHINA
分类号 G03F7/20;G21K1/04 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
主权项
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