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发明名称 PELLICLE
摘要 A pellicle used in semiconductor lithography is provided and comprises a pellicle frame made of aluminum or an aluminum alloy. The surface of the frame is free of pigment.
申请公布号 US2009286170(A1) 申请公布日期 2009.11.19
申请号 US20090465056 申请日期 2009.05.13
申请人 SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD. 发明人 SHIRASAKI TORU
分类号 G03F1/64 主分类号 G03F1/64
代理机构 代理人
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