发明名称 Tantal- und Niob-Verbindungen und ihre Verwendung für die Chemical Vapour Deposition (CVD)
摘要
申请公布号 DE502007001528(D1) 申请公布日期 2009.10.29
申请号 DE200750001528T 申请日期 2007.07.26
申请人 H.C. STARCK GMBH 发明人 REUTER, KNUD;KIRCHMEYER, STEFAN;GAESS, DANIEL;POKOJ, MICHAEL;SUNDERMEYER, JOERG;STOLZ, WOLFGANG;OCHS, THOMAS;VOLZ, KERSTIN
分类号 C07F9/00;H01L21/285 主分类号 C07F9/00
代理机构 代理人
主权项
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