| 发明名称 | 稀土类磁铁的制造方法及电镀液 | ||
| 摘要 | 提供耐蚀性优良的稀土类磁铁的制造方法及用于该方法的电镀液。在含稀土类元素的磁铁基体上，依次层叠含镍的第1保护膜和含镍及硫的第2保护膜。第1保护膜使用包含镍源、导电性盐、pH稳定剂、镍源的镍原子单位浓度为0.3mol/l～0.7mol/l、电导率在80mS/cm以上的第1电镀液进行电镀而形成。因而，可以抑制稀土富集相的洗脱，减少针孔的生成，并且因此提高耐蚀性。 | ||
| 申请公布号 | CN100554530C | 申请公布日期 | 2009.10.28 |
| 申请号 | CN200480005433.0 | 申请日期 | 2004.03.04 |
| 申请人 | TDK株式会社 | 发明人 | 坂本健;中山靖之;岩井达洋;山本智实 |
| 分类号 | C25D7/00(2006.01)I;C25D5/14(2006.01)I;H01F41/02(2006.01)I | 主分类号 | C25D7/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 邹雪梅 |
| 主权项 | 1.一种稀土类磁铁的制造方法，其特征在于，包含：用含有镍源、导电性盐、pH稳定剂、镍源的浓度以镍原子为单位是0.3mol/l～0.7mol/l，且电导率为80mS/cm以上的第1电镀液，用电镀方法在含稀土类元素的烧结磁铁基体上形成含镍的第1保护膜的工序；以及在第1保护膜上形成含镍及硫的第2保护膜的工序。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||