发明名称 СТРУКТУРА МАСКИ РЕНТГЕНОВСКОЙ ЛИТОГРАФИИ ДЛЯ LIGA-ТЕХНОЛОГИИ
摘要 Структура маски рентгеновской литографии для LIGA-технологии, закрепленная в металлическом держателе посредством адгезива, состоящая из топологического рисунка абсорбера рентгеновского излучения, опорной пленки и пластины, отличающаяся тем, что опорная пленка однослойная, изготовлена из полиимида и расположена поверх топологического рисунка абсорбера, причем пластина выполнена из полупроводникового материала, а держатель имеет выточенные посадочные места и отверстия, соответствующие размерам областей масок с топологическим рисунком, и позволяет одновременно закреплять маски различных форм и размеров, при этом отверстия под вклеенным шаблоном расточено под конус.
申请公布号 RU88187(U1) 申请公布日期 2009.10.27
申请号 RU20090122861U 申请日期 2009.06.15
申请人 发明人
分类号 G21F1/02 主分类号 G21F1/02
代理机构 代理人
主权项
地址