| 发明名称 | 等离子体处理设备和等离子体处理方法 | ||
| 摘要 | 一种等离子体处理设备(1)通过从电磁波辐射部分(14)辐射到处理容器(4)中的电磁波在处理容器(4)中产生等离子体，以便通过等离子体进行等离子体处理。至少构成处理容器(4)的壁的一部分包括传输电磁波的至少一部分电磁波传输路径(3)。 | ||
| 申请公布号 | CN100552871C | 申请公布日期 | 2009.10.21 |
| 申请号 | CN200510059147.9 | 申请日期 | 2005.03.21 |
| 申请人 | 株式会社液晶先端技术开发中心 | 发明人 | 菅井秀郎;井出哲也;佐佐木厚;东和文;中田行彦 |
| 分类号 | H01L21/00(2006.01)I;H01L21/3065(2006.01)I;H05H1/46(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人 | 王 英 |
| 主权项 | 1、一种等离子体处理设备，其特征在于包括：电磁波源；电磁波传输路径，包括用于电磁波辐射的多个正方形波导，用于从所述电磁波源传输电磁波；处理容器，从所述用于电磁波辐射的正方形波导传输的电磁波辐射到该处理容器中；所述等离子体处理设备通过从所述用于电磁波辐射的正方形波导的电磁波辐射部分辐射到该处理容器中的电磁波在该处理容器中产生等离子体，以便通过该等离子体进行等离子体处理，其中，在构成所述处理容器的壁的内表面的至少一部分上设置凹部，该凹部变为用于电磁波辐射的正方形波导的一部分，以及所述壁的内表面的至少一部分包括传输所述电磁波的所述电磁波传输路径的至少一部分。 | ||
| 地址 | 日本神奈川县 | ||