低压下在石英坩埚内壁上喷涂氮化硅涂层的装置

摘要

本实用新型涉及一种低压下在石英坩埚内壁上喷涂氮化硅涂层的装置，包括石英坩埚(1)、雾化头(2)、真空泵(3)、真空计(4)、低压容器(5)、阀门(6)、搅拌器(8)和盛氮化硅浆容器(9)，所述低压容器(5)与真空泵(3)相连，低压容器(5)上安装真空计(4)，控制低压容器(5)内的压力为10-100Pa，所述石英坩埚(1)置于密闭的低压容器(5)内，雾化头(2)设置于石英坩埚(1)内，雾化头(2)通过管路(7)与盛氮化硅浆容器(9)相连，管路(7)上设有阀门(6)，盛氮化硅浆容器(9)内设置有搅拌器(8)。本实用新型能制备厚度均匀、污染小、结构致密的氮化硅层，且能减少环境污染及减少对作业人员健康危害。

主权项

1、一种低压下在石英坩埚内壁上喷涂氮化硅涂层的装置，其特征在于：所述装置包括石英坩埚(1)、雾化头(2)、真空泵(3)、真空计(4)、低压容器(5)、阀门(6)、搅拌器(8)和盛氮化硅浆容器(9)，所述低压容器(5)与真空泵(3)相连，低压容器(5)上安装真空计(4)，控制低压容器(5)内的压力为10-100Pa，所述石英坩埚(1)置于密闭的低压容器(5)内，雾化头(2)设置于石英坩埚(1)内，雾化头(2)通过管路(7)与盛氮化硅浆容器(9)相连，管路(7)上设有阀门(6)，盛氮化硅浆容器(9)内设置有搅拌器(8)。