连续卷绕式磁控溅射双面陶瓷高阻隔膜装置

摘要

本发明提供了一种连续卷绕式磁控溅射双面陶瓷高阻隔膜装置。它包括沉积室、放卷装置和收卷装置，在沉积室上部安有放卷装置，中间装有镀膜辊，下部装有长方形硅靶，沉积室的两端设有封头，在沉积室上设有观察窗，沉积室的下部通过蝶阀和管道分别连接有机械泵、罗茨泵和分子泵，分子泵连接维持泵。本发明在每个真空镀膜室安装等离子源，对膜表面进行清洗和表面处理，以保证后续镀膜质量。本发明实现了连续化生产，克服了现有技术只能单面镀膜的不足，提供了连续在基材双面同时镀膜的功能，对于进一步提高包装材料的高阻隔性具有积极的意义，在连续生产的基础上极大的提高了生产效率，极大的提高了社会效益，对柔性包装材料的阻隔性能有很大的提高。

主权项

1、一种连续卷绕式磁控溅射双面陶瓷高阻隔膜装置，其特征在于它包括沉积室、放卷装置、收卷装置以及设置在沉积室外部的蝶阀、机械泵、罗茨泵、分子泵，在沉积室上部安有放卷装置，中间装有镀膜辊，下部装有长方形硅靶，沉积室的两端设有封头，在沉积室上设有观察窗，沉积室的下部通过蝶阀和管道分别连接有机械泵、罗茨泵和分子泵，分子泵连接维持泵。