发明名称 真空处理设备、控制真空处理设备的方法及器件制造方法
摘要 本发明涉及一种真空处理设备、控制其的方法及器件制造方法,其中减小安装闸阀的驱动部分和排气泵所必要的空间使整个设备紧凑。该设备包括真空室(5)、与真空室(5)的排气口(10)相通的排气泵(6)、以及具有阀体(11)的闸阀(7),该阀体沿着接近和离开排气口(10)的方向运动以打开/封闭排气口(10)。真空室(5)设有沿着从阀体(11)的运动方向倾斜的方向从排气口(10)延伸的连接部分(8)。连接部分(8)连接至排气泵(6)。闸阀(7)包括设在真空室(5)中的阀体(11)、具有沿阀体(11)的运动方向延伸且驱动阀体(11)的杆部(13)的驱动部分(12)。驱动部分(12)布置在连接部分(8)的外部。
申请公布号 CN101532582A 申请公布日期 2009.09.16
申请号 CN200910126498.5 申请日期 2009.03.13
申请人 佳能安内华股份有限公司 发明人 白井泰幸
分类号 F16K24/00(2006.01)I 主分类号 F16K24/00(2006.01)I
代理机构 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人 柴毅敏
主权项 1. 一种包括真空室的真空处理设备,其包括:布置在所述真空室中的闸阀,所述闸阀包括阀体和用于使所述阀体运动的驱动装置,所述阀体沿着接近和离开所述真空室的排气口的方向运动以打开/封闭所述排气口;连接部分,所述连接部分的一端连接至所述真空室的所述排气口,并且所述连接部分沿着从所述阀体的运动方向倾斜的方向形成;以及排气泵,所述排气泵连接至所述连接部分的另一端且能够抽空所述连接部分的内部,其中所述闸阀布置在所述连接部分的所述一端和所述另一端之间,以及所述闸阀布置在所述连接部分的外部。
地址 日本神奈川