| 摘要 |
本发明系关于一种聚矽氧释离涂层组合物、一种释离涂覆基材及一种用于制造一释离涂覆基材之方法。该聚矽氧释离涂层组合物包含：(A)比率为10/90至70/30之以下聚二有机矽氧烷(a1)与聚二有机矽氧烷(a2)之混合物：(a1)每分子具有平均至少两个烯基且在25℃之温度下具有100-500 mPas黏度之聚二有机矽氧烷；及(a2)每分子具有平均至少两个烯基且在25℃之温度下具有至少5,000 mPas黏度之聚二有机矽氧烷；(B)每分子具有平均两个以上与矽键结的氢原子之有机氢聚矽氧烷，其量足以提供该有机氢聚矽氧烷中之与矽键结的氢与组分(A)中之烯基的莫耳比一0.8:1至5:1之值；(C)催化量之矽氢化催化剂；及(D)0.001-2.0重量份数之矽氢化反应抑制剂。 |
