发明名称 |
氮化物半导体装置及其制造方法 |
摘要 |
本发明是提供具有在电极间不会发生电阻成分的P电极的氮化物半导体装置及其制造方法。P电极12是由一第一钯膜13、一钽膜14及作为防止钽膜14的氧化之作为抗氧化膜的第二钯膜15所构成,并形成于由氮化物半导体所构成的一P型接触层11上。在第二钯膜15上,形成一垫电极22。作为抗氧化膜的第二钯膜15是全面性地形成于构成P电极12的钽膜14上,藉由此一第二钯膜15可以防止钽膜14的氧化,因此可以抑制发生于P电极12与垫电极22之间的电阻成分,藉此可以防止P电极12与垫电极22的接触不良,因而可以实现低电阻的P电极12。 |
申请公布号 |
TW200939321 |
申请公布日期 |
2009.09.16 |
申请号 |
TW097141562 |
申请日期 |
2008.10.29 |
申请人 |
三菱电机股份有限公司 |
发明人 |
胜臣;金本恭三;大石敏之;黑川博志;大塚健一;樽井阳一郎;德田安纪 |
分类号 |
H01L21/28(2006.01);H01L21/321(2006.01) |
主分类号 |
H01L21/28(2006.01) |
代理机构 |
|
代理人 |
洪澄文 |
主权项 |
|
地址 |
日本 |