| 发明名称 | 退浆结构 | ||
| 摘要 | 一种退浆结构，包括：一电浆处理机构，其至少具有一电浆单元、及分别设于电浆单元二侧的滚轮，而该电浆单元至少包含相互对应的上、下电极、及一电性连接上电极的信号产生器；一酵素浸泡机构，设于上述电浆处理机构的一侧；以及一水洗机构，设于上述酵素浸泡机构的一侧。藉此，可使纱材于退浆时利用电浆处理机构破坏浆料的分子结构，以增加欲处理浆料的亲水性，使水洗机构以常温即可进行浆料的清洗，而使纱材于退浆时，达到节能及易于退浆的功效。 | ||
| 申请公布号 | CN201305784Y | 申请公布日期 | 2009.09.09 |
| 申请号 | CN200820302611.1 | 申请日期 | 2008.10.31 |
| 申请人 | 润泰全球股份有限公司 | 发明人 | 徐志漳;蒋以平 |
| 分类号 | D06L1/14(2006.01)I;D06L1/20(2006.01)I;C12S11/00(2006.01)I | 主分类号 | D06L1/14(2006.01)I |
| 代理机构 | 长沙正奇专利事务所有限责任公司 | 代理人 | 何 为 |
| 主权项 | 【权利要求1】一种退浆结构，其特征在于包括：一电浆处理机构，其至少具有一电浆单元、及分别设于电浆单元二侧的滚轮，而该电浆单元至少包含相互对应的上、下电极、及一电性连接上电极的信号产生器；一酵素浸泡机构，设于上述电浆处理机构的一侧；以及一水洗机构，设于上述酵素浸泡机构的一侧。 | ||
| 地址 | 中国台湾台北市八德路2段308号13楼 | ||