发明名称 电感耦合等离子体管筒内表面离子注入改性装置及方法
摘要 电感耦合等离子体管筒内表面离子注入改性装置及方法,它涉及一种表面处理装置和处理方法。本发明为解决现有管筒内表面离子注入处理时因采用电容耦合等离子体使得放电间距大而难以对细管内表面进行处理的问题。装置:螺线管设置在管筒内,且一端与匹配箱连接、另一端与地极连接。方法:一、将真空室内抽真空;二、向真空室内充入气体;三、螺线管内外产生轴向均匀的电感耦合等离子体;四、脉冲负高压施加到管筒上使管筒内形成径向电场;五、关闭脉冲负高压电源和射频电源,完成电感耦合等离子体管筒内表面离子注入。本发明具有等离子体源放电均匀的优点,螺线管起到地电极钳制电位的作用,本发明可以对直径更细小的管筒内表面进行离子注入处理。
申请公布号 CN101525738A 申请公布日期 2009.09.09
申请号 CN200910071869.4 申请日期 2009.04.23
申请人 哈尔滨工业大学 发明人 田修波;汪志健;杨士勤
分类号 C23C14/48(2006.01)I 主分类号 C23C14/48(2006.01)I
代理机构 哈尔滨市松花江专利商标事务所 代理人 刘同恩
主权项 1、一种电感耦合等离子体管筒内表面离子注入改性装置,它包括至少一个管筒(2)、第一绝缘密封接头(3)、真空室(4)、射频电源(5)、脉冲负高压电源(6)、泵组系统(7)、匹配箱(16)、第二绝缘密封接头(17)、第三绝缘密封接头(18)、第一绝缘支架(19)和高压电缆(20),射频电源(5)的输出端与匹配箱(16)输入端连接,第一绝缘密封接头(3)、第二绝缘密封接头(17)和第三绝缘密封接头(18)分别设置在真空室(4)的侧壁上,第一绝缘支架(19)设置在真空室(4)内的底面上,至少一个管筒(2)设置在第一绝缘支架(19)上,真空室(4)与泵组系统(7)连接,高压电缆(20)的一端穿过第三绝缘密封接头(18)与真空室(4)内的至少一个管筒(2)连接,高压电缆(20)的另一端与真空室(4)外的脉冲负高压电源(6)连接,其特征在于:它还包括至少一个螺线管(1)、第一电缆(22)和第二电缆(23),至少一个螺线管(1)设置在管筒(2)内且与管筒(2)同轴设置,螺线管(1)的一端通过第一电缆(22)与真空室(4)外面的匹配箱(16)连接,且第一电缆(22)穿过第一绝缘密封接头(3),螺线管(1)的另一端通过第二电缆(23)与射频电源(5)的地电极(15)连接,且第二电缆(23)穿过第二绝缘密封接头(17)。
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