发明名称 电子元件图纹缺陷的修补方法
摘要 本发明提供一种电子元件图纹缺陷的修补方法包括提供基板具有图案化结构于其上,其中图案化结构具有至少一个缺陷,且图案化结构对应主要区域及该至少一个缺陷对应缺陷区域。施以第一表面处理步骤于缺陷区域,使缺陷区域的表面性质不同于主要区域。以喷墨法施以缺陷修补步骤以及施以第二表面处理步骤于缺陷区域,使缺陷区域的表面性质与主要区域的表面性质相同。
申请公布号 CN100538409C 申请公布日期 2009.09.09
申请号 CN200610143590.9 申请日期 2006.11.09
申请人 财团法人工业技术研究院 发明人 郑兆凯;黄介一;邱琬雯;林春宏;张加强
分类号 G02B5/20(2006.01)I;B41J2/01(2006.01)I;G03F1/00(2006.01)I 主分类号 G02B5/20(2006.01)I
代理机构 北京市柳沈律师事务所 代理人 陶凤波
主权项 1. 一种电子元件图纹缺陷的修补方法,包括:提供基板具有图案化结构于其上,其中该图案化结构具有至少一个缺陷,且该图案化结构对应主要区域及该至少一个缺陷对应缺陷区域;施以第一表面处理步骤于该缺陷区域,使该缺陷区域的表面性质不同于该主要区域,该第一表面处理步骤包括第一物理性表面处理步骤或第一化学性表面处理步骤;施以缺陷修补步骤,该缺陷修补步骤包括喷墨步骤;以及施以第二表面处理步骤于该缺陷区域,使该缺陷区域的表面性质与该主要区域的表面性质相同,该第二表面处理步骤包括第二物理性表面处理步骤或第二化学性表面处理步骤。
地址 中国台湾新竹县