发明名称 用于离子注入器的容积气体输送系统
摘要 一种气体输送系统(100)包括一个处于第一电位的气体源和一个处于高于第一电位的第二电位的离子源。系统(100)还包括一个联接于气体源与离子源之间的电绝缘连接器(108)。本发明还包括一种向离子注入系统输送气体的方法(200),包括以下步骤:将储存位置处的离子源气体的电位保持于比离子注入系统的离子源处的第二电位低的第一电位(202);以及将源气体从储存位置输送至离子源(204)。
申请公布号 CN100527346C 申请公布日期 2009.08.12
申请号 CN01818499.5 申请日期 2001.08.21
申请人 艾克塞利斯技术公司 发明人 R·J·泽斯祖特;J·P·奎尔
分类号 H01J37/317(2006.01)I;H01J27/02(2006.01)I;H01J37/08(2006.01)I 主分类号 H01J37/317(2006.01)I
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 代理人 崔幼平;黄力行
主权项 1. 一种离子注入系统所用的气体输送系统(100),其包括:一处于第一电位的气体源(102);连接到气体源(102)的容积气体输送系统,用于将气体从气体源传送到离子注入系统;一处于高于第一电位的第二电位的离子源;以及一联接于容积气体输送系统与离子源之间的电绝缘连接器(108),其中:该电绝缘连接器(108)进一步包括第一电绝缘管(150、160)和第二电绝缘管(158、162),该第二电绝缘管(158、162)与第一电绝缘管(150、160)形成套叠结构并环绕着该第一电绝缘管(150、160),套叠结构之间形成了一空间(172)以便于在空间(172)内输送加压惰性气体,其中该空间(172)内的惰性气体的压力大于第一电绝缘管(150、160)内的气体的压力,从而防止气体从第一电绝缘管(150、160)漏入空间(172)中。
地址 美国马萨诸塞州