用于过程技术的测量设备和用于测量设备的运行方法

摘要

本发明涉及一种用于过程技术的测量设备以及用于其的运行方法，该测量设备用于过程自动化领域中的测量和/或清洁和/或标定安装中，用于测量pH值和/或氧化还原电位和/或其它过程参数。该测量设备至少包括一个单元，该单元至少具有一个计算机(1)，其中在计算机(1)中提供管理系统(4)，其用于动态管理输入元件(I)和/或输出元件(O)和/或功能元件(F)和/或服务元件(D)和/或管理元件(V)和/或接口元件(IX)和/或其它系统元件。

主权项

1. 用于过程技术的测量设备，其用于过程自动化领域中的测量或清洁或标定安装中，用于测量pH值或氧化还原电位或其它过程参数，该设备至少包括一个中央单元，该中央单元至少具有一个中央计算机(1)，其特征在于，在中央计算机(1)中提供管理系统(4)，其用于动态管理输入元件(I)或输出元件(O)或功能元件(F)或服务元件(D)或管理元件(V)或接口元件(IX)或其它系统元件，使得如果应用程序已经位于中央计算机中，则在中央计算机的操作期间或至少之后，系统元件可以与另一系统元件相连或断开连接，其中所有系统元件(I、O、F、D、V、IX)都以代码模块的形式实现，所述代码模块是指可以在中央计算机(1)上运行的程序代码。