发明名称 形成低电容ESD装置的方法及其结构
摘要 在一实施例中,静电放电(ESD)装置使用该ESD装置内深处之高度掺杂的P区及N区以形成具有受控击穿电压的齐纳二极体。
申请公布号 TW200933874 申请公布日期 2009.08.01
申请号 TW097134579 申请日期 2008.09.09
申请人 半导体组件工业公司 发明人 汤玛士 基那;张基;法蓝欣Y 罗布;刘明焦;阿里 沙利;小约翰 麦可 派西;张乔治
分类号 H01L27/02(2006.01) 主分类号 H01L27/02(2006.01)
代理机构 代理人 陈长文
主权项
地址 美国