发明名称 凹部形成方法、凹凸制品的制造方法、发光元件的制造方法以及光学元件的制造方法
摘要 一种凹部形成方法,其是于可进行热模式的变形的记录材料层上形成多个凹部,此凹部形成方法具备如下步骤:藉由自包含光源而构成的光学系统照射经聚集的光,而在记录材料层上形成凹部的凹部形成步骤;于上述记录材料层上形成凹部的过程中或形成凹部后,对此凹部照射检查光的检查光照射步骤;检测自上述凹部反射或绕射的检查光的光量的检测步骤;以及基于上述光量调整上述光源的输出功率,以使此光量达到预定值的输出功率调整步骤(S1~S4)。另外,提供一种使用此方法的凹凸制品的制造方法、发光元件的制造方法以及光学元件的制造方法。
申请公布号 TW200931410 申请公布日期 2009.07.16
申请号 TW097139391 申请日期 2008.10.14
申请人 富士软片股份有限公司 发明人 宇佐美由久
分类号 G11B7/26(2006.01);B41M5/26(2006.01);H01L33/00(2006.01) 主分类号 G11B7/26(2006.01)
代理机构 代理人 詹铭文;萧锡清
主权项
地址 日本