发明名称 测量设备、曝光设备及半导体装置制造方法
摘要 本发明提供测量测量目标物件之表面形状的测量设备,包含光投射光学系统,被组构来将来自光源的光分光成测量光与参考光,以便该测量光进入该测量目标物件的表面,及该参考光进入参考镜;光接收光学系统,被组构来将被该测量目标物件之该表面反射的该测量光及被该参考镜反射的参考光导引至光电转换装置;以及处理单元,被组构来根据藉由该光电转换装置所侦测及藉由该测量光及该参考光所形成之干涉图案来计算该测量目标物件之表面的形状。
申请公布号 TW200931190 申请公布日期 2009.07.16
申请号 TW097137745 申请日期 2008.10.01
申请人 佳能股份有限公司 发明人 佐佐木亮
分类号 G03F7/20(2006.01);G03B27/52(2006.01);G01B11/02(2006.01) 主分类号 G03F7/20(2006.01)
代理机构 代理人 林志刚
主权项
地址 日本