| 发明名称 | 成像设备 | ||
| 摘要 | 一种成像设备，包括：图像承载构件；显影剂运载构件，能够与所述图像承载构件接触，用于将显影剂运载到显影位置，用显影剂使形成在所述图像承载构件上的静电图像显影；显影剂调节构件，与所述显影剂运载构件的表面接触，用于调节承载在所述显影剂运载构件上的显影剂的量，其中，所述显影剂运载构件的圆周速度不小于所述图像承载构件的圆周速度的1.05倍并且不大于其1.20倍，所述显影剂运载构件的表面的算术平均粗糙度Ra不小于显影剂的体均粒度的0.20倍，所述显影剂调节构件的电位与所述显影剂运载构件的电位不同，更接近显影剂的正常电荷极性的较大电位，所述显影剂调色剂构件的电位和所述显影剂运载构件的电位之间的电位差不小于50V并且不大于250V。 | ||
| 申请公布号 | CN100511013C | 申请公布日期 | 2009.07.08 |
| 申请号 | CN200610143135.9 | 申请日期 | 2006.11.01 |
| 申请人 | 佳能株式会社 | 发明人 | 远藤理惠;森谷修司;境泽胜弘;高桥宪生 |
| 分类号 | G03G15/08(2006.01)I | 主分类号 | G03G15/08(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京林达刘知识产权代理事务所 | 代理人 | 刘新宇 |
| 主权项 | 1. 一种成像设备，包括：图像承载构件；显影剂运载构件，能够与所述图像承载构件接触，用于将显影剂运载到显影位置，用显影剂使形成在所述图像承载构件上的静电图像显影；显影剂调节构件，与所述显影剂运载构件的表面接触，用于调节承载在所述显影剂运载构件上的显影剂的量，其中，所述显影剂运载构件的圆周速度不小于所述图像承载构件的圆周速度的1.05倍并且不大于其1.20倍，所述显影剂运载构件的表面的算术平均粗糙度Ra不小于显影剂的体均粒度的0.20倍，所述显影剂调节构件的电位与所述显影剂运载构件的电位不同，更接近显影剂的正常电荷极性的较大电位，所述显影剂调节构件的电位和所述显影剂运载构件的电位之间的电位差不小于50V并且不大于250V。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||