薰草素衍生物

主权项

1.一种以一般式1或一般式2之任一式所表示之薰草素衍生物；(在一般式1及一般式2中，X表示碳原子或杂原子，R1至R14分别独立表示氢原子或适当的取代基，但是，R1及/或R2系，含有此等所结合之氮原子与R3或R4所结合之碳原子，以形成环状构造，而在此情形，R3及/或R4在表观上为不存在；又，R9至R14之任一系为烃基之物，而其烃基可具有取代基；再者，X为2价或3价杂原子时，则R7及/或R8将不存在；但，R6为氰基时，R1及R2系，含有该等所结合之氮原子与，R3或R4所结合之碳原子而不形成环状构造，又X为氧原子时，则除去R6为氢原子，或邻羧基或碳原子数1至3之烷氧碳基所取代之苯基之情形)。2.如申请专利范围第1项所记载之薰草素衍生物，其中系以一般式3或一般式4所示者；(一般式3及一般式4中，X为与一般式1或一般式2中同样，表示碳原子或杂原子，R5至R14为与一般式1或一般式2中同样，表示氢原子或适当的取代基，而R9至R14中之任一系为烃基之物，R15至R18分别独立表示氢原子或适当之取代基，但，除去R6为氰基之情形；又X为氧原子时，则除了R6为氢原子，或邻羧基或碳原子数1~3之烷氧羰基所取代之苯基之情形)。3.如申请专利范围第1项或第2项所记载之薰草素衍生物，其中一般式1或一般式2，一般式3或一般式4中之R9至R14之任1系具有分枝之脂肪族烃基。4.如申请专利范围第1项所记载之薰草素衍生物，其中在可视领域中具有吸收极大值。5.如申请专利范围第1项所记载之薰草素衍生物，其中在可视领域中具有发光极大值。6.如申请专利范围第1项所记载之薰草素衍生物，其中玻璃化温度超过130℃以上。7.一种如申请专利范围第1项至第6项中之任1项所记载之薰草素衍生物之制造方法，其经由对应一般式1或一般式2之具有R1至R6之一般式5所示之化合物，与对应一般式1或一般2之具有X及R7至R14之一般式6或一般式7之任1式表示之化合物予以反应之步骤；(一般式6及一般式7中，X系2价或3价之杂原子时，则H1及H2将不会存在)。