发明名称 权重式测距的规则光学临近修正的方法
摘要 本发明公开了一种权重式测距的规则光学临近修正的方法,对被修正图形处于密集图形与孤立图形交替出现的区域进行修正,其中被修正图形对应任意一段孤立图形的修正区域为一个修正片断;包括如下步骤:测量修正片断的片头、片中、片尾及其两端延伸区对应的修正量;根据权重方式计算修正片断的修正量。因为本发明用权重的方式计算一个修正片断的修正量,比现有以最小值计算修正片断修正量的方法更加精准有效。
申请公布号 CN101452204A 申请公布日期 2009.06.10
申请号 CN200710094320.8 申请日期 2007.11.28
申请人 上海华虹NEC电子有限公司 发明人 魏芳;张斌
分类号 G03F1/14(2006.01)I 主分类号 G03F1/14(2006.01)I
代理机构 上海浦一知识产权代理有限公司 代理人 周 赤
主权项 1、一种权重式测距的规则光学临近修正的方法,对被修正图形处于密集图形与孤立图形交替出现的区域进行修正,其中被修正图形对应任意一段孤立图形的修正区域为一个修正片断;其特征在于,包括如下步骤:(1)测量所述修正片断的片头、片中、片尾及其两端延伸区对应的修正量;(2)根据权重方式计算所述修正片断的修正量,其计算公式为:s=a1*s1+a2*s2+a3*s3+a4*s4+a5*s5;a1+a2+a3+a4+a5=1;其中,s为所述修正片断的修正量,s2为片头的修正量,s3为片中的修正量,s4为片尾的修正量,s1为片头延伸区的修正量,s5为片尾延伸区的修正量,a1至a5分别为s1至s5的权重值。
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