| 发明名称 | PECVD装置的气体管路结构 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种PECVD装置的气体管路结构，由多路上腔体供应气体通入气体分配柜内混合后，经同一管路通入后端反应腔；将多路上腔体供应气体分为还原性气体和氧化性气体两个部分，还原性气体和述氧化性气体分别由两个管路通入气体分配柜进行混合。因为本发明将强还原性气体和强氧化性气体分开管路设计，可以有效防止管道堆积颗粒，保证工艺稳定性和安全性。 | ||
| 申请公布号 | CN101445917A | 申请公布日期 | 2009.06.03 |
| 申请号 | CN200710094290.0 | 申请日期 | 2007.11.27 |
| 申请人 | 上海华虹NEC电子有限公司 | 发明人 | 史剑峰;张文华 |
| 分类号 | C23C16/44(2006.01)I;C23C16/50(2006.01)I | 主分类号 | C23C16/44(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海浦一知识产权代理有限公司 | 代理人 | 周 赤 |
| 主权项 | 1、一种PECVD装置的气体管路结构，由多路上腔体供应气体通入气体分配柜内混合后，经同一管路通入后端反应腔；其特征在于，将所述多路上腔体供应气体分中的还原性气体和氧化性气体分别由两个管路通入所述的气体分配柜进行混合。 | ||
| 地址 | 201206上海市浦东新区川桥路1188号 | ||