发明名称 |
用于选择性吸收电磁辐射的格栅及其制造方法 |
摘要 |
一种例如在CT或NM成像中采用的用于选择性吸收电磁辐射(2、3)的格栅(1),包括:硬质泡沫材料块(4),其中所述泡沫材料对电磁辐射(2、3)基本上是透明的;第一组辐射吸收薄片(5);以及第二组辐射吸收薄片(6),所述第一组和第二组薄片设置在泡沫材料块中,使得限定出了辐射透射方向(T),所述第一组薄片和所述第二组薄片设置在彼此的相对于透射方向(T)的顶部上。这种格栅装置由于使用了载体材料所以是刚性的,可以精确制造,并且还可以制造二维格栅,而不需要在物理上交叉这些薄片。 |
申请公布号 |
CN101443856A |
申请公布日期 |
2009.05.27 |
申请号 |
CN200680034322.1 |
申请日期 |
2006.09.11 |
申请人 |
皇家飞利浦电子股份有限公司 |
发明人 |
R·多沙伊德;G·福格特米尔;R·斯特德曼;R·K·格鲁姆;A·埃尔格里 |
分类号 |
G21K1/02(2006.01)I;A61B6/06(2006.01)I |
主分类号 |
G21K1/02(2006.01)I |
代理机构 |
永新专利商标代理有限公司 |
代理人 |
陈松涛 |
主权项 |
1、用于选择性吸收电磁辐射(2、3)的格栅(1),该格栅(1)包括:-硬质泡沫材料块(4),该泡沫材料对所述电磁辐射(2、3)基本上是透明的,-第一组辐射吸收薄片(5),以及-第二组辐射吸收薄片(6),所述第一组和第二组薄片设置在所述泡沫材料块中,使得限定出了辐射透射方向(T),所述第一组薄片和所述第二组薄片设置在彼此的相对于所述透射方向(T)的顶部上。 |
地址 |
荷兰艾恩德霍芬 |