| 发明名称 | 板构件，基板保持装置，曝光装置及曝光方法，以及元件制造方法 | ||
| 摘要 | 基板保持具PH，具备：第1保持部PH1，是保持基板P；板构件T的内侧面Tc，是透过既定间隙A与保持于第1保持部PH1的基板P侧面Pc相对向，具有防液性；以及去角部C，是设于内侧面Tc上部。于基板P的侧面Pc设有具防液性的防液区域，去角部C，设置成与保持于第1保持部PH1的基板P的防液区域相对向。藉此，提供一种可抑制液体渗入基板背面侧的基板保持装置。 | ||
| 申请公布号 | CN100490068C | 申请公布日期 | 2009.05.20 |
| 申请号 | CN200680000262.1 | 申请日期 | 2006.03.20 |
| 申请人 | 尼康股份有限公司 | 发明人 | 长坂博之;藤原朋春 |
| 分类号 | H01L21/027(2006.01)I;H01L21/683(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/027(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国商标专利事务所有限公司 | 代理人 | 万学堂 |
| 主权项 | 1、一种基板保持装置，是保持透过液体来曝光的基板，其特征在于，具备：保持部，是保持该基板；既定面，是与保持于该保持部的该基板的侧面透过既定间隙相对向，具有防液性；以及去角部，是形成于该既定面上部；于该基板侧面设有具防液性的防液区域；该去角部，是设置成与保持于该保持部的该基板的防液区域相对向。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||