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经营范围
发明名称
电浆处理装置中的电荷中和
摘要
一种电浆处理装置,包括:制程室;源,配置成在制程室内产生电浆,以及压盘,配置成在制程室内支撑工件。压盘由具有脉冲ON时间周期及脉冲OFF时间周期的脉冲压盘讯号来偏置,以在脉冲ON时间周期并且不在脉冲OFF时间周期内朝向工件加速来自电浆的离子。板状物定位于制程室内。板状物由板状物讯号来偏置,以在脉冲压盘讯号的脉冲OFF时间周期中之一者的至少一部份周期内朝向板状物加速来自电浆的离子,引起从板状物的二次电子发射,以至少部份地中和工件上的电荷积聚。
申请公布号
TW200922389
申请公布日期
2009.05.16
申请号
TW097136709
申请日期
2008.09.24
申请人
瓦里安半导体设备公司
发明人
葛特 卢多维克;瑞都凡诺 史费特那;帕帕守尔艾迪斯 乔治D;洛吉 戴文M;辛区 维克拉姆;米勒 提摩太J;方子韦
分类号
H05H15/00(2006.01)
主分类号
H05H15/00(2006.01)
代理机构
代理人
詹铭文;萧锡清
主权项
地址
美国
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