发明名称 Zweibildsensor und Herstellungsverfahren desselben
摘要 Ausführungsformen beziehen sich auf einen Zweibildsensor, der ein erstes Bauteil mit einem ersten Wafer enthält, aufweisend eine erste schräge Stufe, eine erste reflektierende Fläche auf der schrägen Ebene auf der ersten schrägen Stufe, wenigstens eine erste Mikrolinse über einer unteren Endfläche neben der ersten schrägen Stufe und ein erstes mit Metall gefüllte Kontaktloch auf einer oberen Endfläche neben der ersten schrägen Stufe. Ein zweites Bauteil in dem Zweibildsensor enthält einen zweiten Wafer mit einer zweiten schrägen Stufe, einer zweiten schrägen reflektierenden Fläche auf einer schrägen Ebene auf der zweiten schrägen Stufe und wenigstens eine zweite Mikrolinse über einem ersten Bereich einer oberen Endfläche neben der zweiten schrägen Stufe. Ein Doppelbildsensor wird durch Verbinden des Metalls in dem ersten Kontaktloch mit dem Metall in dem zweiten Kontaktloch gebildet. Der Zweibildsensor ist in der Lage, das Licht, das von der Vorderseite oder der Rückseite des Bildsensors einfällt, abzubilden.
申请公布号 DE102008048652(A1) 申请公布日期 2009.05.14
申请号 DE20081048652 申请日期 2008.09.24
申请人 DONGBU HITEK CO. LTD. 发明人 YOON, JOON KU
分类号 H01L27/146 主分类号 H01L27/146
代理机构 代理人
主权项
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