一种用于激光内雕的能量补偿方法

摘要

本发明是关于一种用于激光内雕的能量补偿方法，包括以下步骤：提供设有Q开关的激光器；算出激光内雕时的扫描中心点所需的能量值及离扫描中心最远点所需的能量值；建立离扫描中心点的位移量与所需的能量值之间的位移量与所需能量的函数关系；根据激光器输出脉冲的建立时间与所需输出能量的关系，建立离扫描中心点的位移量与建立时间的函数关系；根据离扫描中心点的位移量与建立时间的函数关系，Q开关调Q对建立时间控制而对不同位置的扫描点进行能量补偿；通过Q开关调Q改变调Q脉宽频率以及脉宽，增加单脉冲能量，方便有效对不同扫描点的能量损失进行补偿，使整个扫描范围爆破点亮度达到一致，在整个扫描范围雕刻出相对一致雕刻效果。

主权项

1. 一种用于激光内雕的能量补偿方法，其特征在于，包括以下步骤：提供激光器，所述激光器设有Q开关；估算出激光内雕时的扫描中心点所需的能量值及离扫描中心最大位移量的点所需的能量值；建立离扫描中心点的位移量与所需的能量值之间的位移量与所需能量的函数关系；将激光内雕时所需的能量转化为所需激光器输出脉冲输出能量；根据激光器输出脉冲的建立时间与所需输出能量的关系，建立离扫描中心点的位移量与建立时间的函数关系；根据离扫描中心点的位移量与建立时间的函数关系，Q开关调Q对不同位置的扫描点进行能量补偿。