使用光学以及非反射功率方法的低功率RF调整

摘要

本发明的实施态样包含通过使用一等离子数据监控组件而用来监控及调整一基板处理系统中的等离子的方法及设备。举例来说，可使用适于测量在电磁光谱的一特定部份上的光性质的光学仪器，以侦测一或多个来自等离子的波长强度。接着，一电子装置(例如一计算机软件)可分析该波长强度，且接着可调整一匹配电路。以此方式，可获得一致的等离子。在其它实施例中，本发明可利用腔体压力、基板温度、线圈电流、及/或等离子之间的关系，以调整并维持一可重复的等离子工艺。

主权项

1. 一种在基板处理系统中监控等离子的方法，包含：监控由腔体内部的等离子反射的反射电磁辐射；使该反射电磁辐射与该处理系统中的射频功率产生关联性；及调整匹配电路以维持可重复的等离子条件。